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第五批公私場所應設置連續自動監測設施及與主管機關連線之固定污染源_計畫公告事項
行業別 製 程 固定污染源 條 件 說 明 揮發性有機物 排放流率(含溫度) 各碳數非甲烷碳氫化合物 高反應性揮發性有機物種 說明
光電材料及元件製造業 各程序 各污染源 公私場所內所有製程之排放管道之揮發性有機物單位小時許可排放量一.三公斤以上者。     左列應監測項目應設置於揮發性有機物污染防制設備之廢氣導入處及排放口。
半導體製造業 各程序 各污染源 公私場所內所有製程之排放管道之揮發性有機物單位小時許可排放量0.六公斤以上者。     左列應監測項目應設置於揮發性有機物污染防制設備之廢氣導入處及排放口。
膠帶製造業 各程序 各污染源 公私場所內所有製程之含揮發性有機物原(物)料年許可用量五十公噸以上且所有製程之排放管道之揮發性有機物單位小時許可排放量六公斤以上者。     左列應監測項目應設置於揮發性有機物污染防制設備之廢氣導入處及排放口。
各行業 石化製程 廢氣燃燒塔 所有此類設備   左列應監測項目應設置於廢氣燃燒塔導入廢氣之管線處。其中屬於石油煉製製程應加設總還原硫監測設施。
資料來源:行政院環境保護署
 
 
 
 
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